SYSNEX 기업부설연구소는 2002년 화합물 반도체 박막/후막 증착 전공정 장비
및 관련 제품 연구와 개발을 위해 설립되었습니다. 당 연구소의 목표는 고품질의 화합물
반도체 박막 및 후막 성장 장비의 개발과 성장기술을 연구함으로써, 고객의 높은 경제적
가치 창조를 위한 혁신적인 해결책을 제공하는 것 입니다.
여러 기업의 부설연구소, 산.학.연 등과 공동으로 새로운 장비 및 공정 개발과 독자적
장비개발을 통해 매년 2~3건의 특허 등록 등 첨단 원천기술을 확보하기 위해 오늘도
끊임없이 연구개발하고 있습니다.
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